정해진 양의 부품을 단일 챔버에서 독립 사이클로 처리하는 가장 유연한 전기로
정해진 양의 부품을 단일 챔버에서 독립 사이클로 처리하는 가장 유연한 전기로
정해진 양의 부품(배치)을 바구니나 랙에 적재하여 단일 밀폐 챔버에 투입합니다. 도어가 밀봉된 후 가열→유지→냉각 전체 사이클이 챔버 내부에서 독립적으로 수행되며, 공정 완료 후 배출됩니다.
박스형이 가장 일반적이며, 엘리베이터형(하부에서 챔버 진입), 종형(Pit형, 수직 구조) 등 다양한 형태가 있습니다.
매 사이클이 완전히 분리되어 있으므로, 새로운 배치가 투입될 때마다 온도 프로파일, 유지 시간, 분위기 가스를 자유롭게 변경할 수 있습니다. 다품종 소량 생산과 R&D 환경에 이상적입니다.
연속로가 공정 변경 시 막대한 다운타임이 필요한 것과 달리, 배치로는 다음 사이클에 즉시 다른 조건을 적용할 수 있습니다.
완전 밀폐된 단일 챔버 구조이므로 질소·아르곤·수소 등 특수 불활성 가스나 환원성 분위기를 정밀하게 관리하기 매우 용이합니다. 외부 대기 유입이 없어 분위기 안정성이 높습니다.
이 특성 때문에 클린룸 수준의 청정 분위기가 필요한 반도체·정밀 부품 열처리에도 적합합니다.
승온율(°C/분), 유지 온도, 유지 시간, 냉각 속도를 매 배치마다 프로그래밍으로 설정합니다. 여러 개의 프로파일을 저장해두고 필요에 따라 불러와 사용합니다.
대형 부품이나 두꺼운 단면을 가진 구조물은 내외부 온도 균형을 위해 단계적 승온(Soaking)이 필수적입니다. 이 세밀한 제어가 배치로의 강점입니다.
생산량이 불규칙한 환경에서는 유휴 기간 동안 완전히 전원을 차단해 에너지 낭비를 방지할 수 있습니다. 연속로처럼 24시간 가동을 유지할 필요가 없습니다.
단, 대량 생산 시에는 매 사이클마다 로 자체와 고정 장치(지그)의 열 질량까지 가열·냉각해야 하므로 단위당 에너지 효율은 연속로보다 낮습니다.
| 구분 | 공정 유연성 | 초기 투자 | 대량 생산 효율 | 적합 용도 |
|---|---|---|---|---|
| 배치로 | 높음 | 낮음 | 낮음~중간 | 대형 부품·다품종·R&D |
| 연속로 | 낮음 | 높음 | 높음 | 소형 부품 대량 생산 |